電子回路・半導体デバイスの問題
温度 のシリコンでできた階段形の 接合ダイオードがある。p 側のアクセプタ濃度 は n 側のドナー濃度 よりも十分に大きい。どちらの濃度も一様であるが、値はわかっていない。接合面積は である。
図のように、n 側が p 側より高電位になる向きに逆方向電圧 を加えて、空乏層容量 を測定した。結果は次のとおりであった。
- のとき
- のとき
次の仮定と値を用いる。
- 片側階段接合とみなし、空乏層は n 側にだけ広がるとする。
- 空乏層の中では自由キャリアが完全になくなるとし(完全空乏近似)、不純物はすべてイオン化しているとする。
- 空乏層容量は、空乏層の幅を として平行平板の式 で表されるとする。
- 拡散電位は で表されるとする。
- 電気素量 、シリコンの誘電率 、、真性キャリア密度 とする。
測定結果から、p 側のアクセプタ濃度 を 単位で求め、有効数字 2 桁で答えよ。
この問題で使うもの
- 空乏層の幅と接合容量(説明と入口の問題)
- pn 接合の拡散電位(説明と入口の問題)
この問題を解けるようになるまで(117 技能)
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- 空乏層の幅と接合容量
ヒント
行き詰まったら、上から順に 1 つずつ開いてください。
ヒント 1
まず、空乏層容量 と逆方向電圧 の関係式をつくります。2 つの測定値の比から拡散電位 を、どちらか一方の値からドナー濃度 を求めます。最後に拡散電位の式から を求めます。
ヒント 2
片側階段接合では であり、 が成り立ちます。2 つの測定値の比をとると、 と が消えます。
ヒント 3
容量の比の 2 乗は となり、 です。これから が得られます。あとは を計算します。
答えと解説
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解説を読む
1. 空乏層の幅と容量の式を導く
空乏層は n 側の にだけ広がるとする。この領域の電荷密度は で一様である。ポアソン方程式は
となる。境界条件は、空乏層の端 で電場が になることである。これのもとで 2 回積分すると、空乏層の両端の電位差は
になる。この電位差は、拡散電位と逆方向電圧の和 に等しい。逆方向電圧は拡散電位と同じ向きに加わるからである。よって
である。これを に代入すると
が得られる。つまり は の 1 次関数である。
2. 拡散電位 を求める
2 つの測定値の比をとると、 と が消える。
よって となり、 より
である。
3. ドナー濃度 を求める
のとき である。、 を代入する。
分子は 、分母は である。したがって
となる。
なお、このときの空乏層の幅は である。
4. アクセプタ濃度 を求める
拡散電位の式を について解くと
となる。各部分を計算する。
- より、
-
よって
となる。
5. 近似の確認
なので が成り立ち、片側階段接合の近似は妥当である。
答え:
別解
片側階段接合(空乏層は n 側のみ)では である。したがって より 、すなわち となる。
1. を求める。2 つの測定の比から 。よって となり、。
2. を求める。 に 、、 を代入する。
分子は 。
分母は 。
よって 。
3. を求める。 より 。
これより 。
なので 。
ゆえに 。
検算: で pn の仮定と整合する。 では となり測定値と一致する。